기술혁신 성공사례

기술혁신 성공사례 - 피코앤테라(주)


기술혁신 성공사례는 기업의 연구책임자 인터뷰를 통해 성공프로젝트를 기술혁신 측면에서 살펴봅니다.
 

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▲ 우범제 대표이사
피코앤테라(주)

공동 작성_ 노민선 연구위원(중소기업연구원)
이정선 전문작가(프리랜서)
신화영 주임(KOITA)


지난해 우리나라 전체 수출액 가운데 반도체가 차지하는 비중은 12%에 달했다. 전체 수출 품목 중에 그 비중이 가장 크다.

특히 메모리 반도체 시장에서는 입지가 독보적이다. 시장의 70% 정도를 우리나라가 점유하고 있다.

메모리 반도체의 핵심인 D램 시장 세계 1위 자리를 지켜내며 우리나라 경제에 중요한 역할을 하고 있다.
 
하지만 전문가들은 한국이 진정한 의미의 반도체 강국으로 거듭나기 위해 반드시 준비해야 할 것이 있다고 말한다.

우수 인력의 충분한 유입과 중소기업의 경쟁력 향상을 필수조건으로 꼽는다. 이러한 가운데 최근 반도체 시장에서는 한 소기업의 소식은 여간 반가운 일이 아니다.

반도체 신공정에 필요한 웨이퍼 잔류가스 제거 기술을 세계 최초로 개발, 양산에 성공하였으며, 국내·외 주요 업체들에 공급하고 있는 피코앤테라가 바로 그 주역이다.


반도체 장비의 발전에 따른 성과와 과제
 

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반도체 업계에서 많이 하는 이야기 중에 ‘무어의 법칙’이라는 것이 있다. 반도체 집적회로의 성능이 18개 월마다 2배로 늘어난다는 법칙 대로 반도체 기술은 그동안 눈부신 발전을 거듭해 왔다.

하지만 2010년 이후로 20㎚대의 양산화 및 10㎚ 대의 반도체 소자는 나오기 어렵다는 지배적인 분위기 아래 국내 대표 반도체 생산기업인 삼성전자는 2014년 세계 최초로 20㎚ D램 양산에 성공한데 이어 최근 10㎚대의 D램 양산성공을 발표하였다.

이러한 반도체 기술의 발전은 반도체 회로설계와 같은 제품혁신(Product Innovation)과 더불어 수율향상 및 원가절감을 목표로 하는 공정혁신(Process Innovation)이라는 두 개의 축으로 돌아간다.

이 때 반도체 생산의 공정혁신은 반도체 제조에 사용되는 장비의 기술 발전에 따라 결정된다고 해도 과언이 아니다. 반도체 산업 발전의 이면에는 반도체 장비업체들의 선전이 있는 것이다.

제조업에서 공정 수율은 원가에 직접적인 영향을 미친다. 따라서 기업들은 공정 수율 향상에 많은 노력을 기울이고 있다.

그런데 반도체 생산기술의 발달로 인해 반도체 회로의 선폭이 20㎚ 이하로 밀집되면서 공정의 복잡성은 증가하는 반면 수율이 하락하는 문제가 커지기 시작했다.

20㎚ 이하의 공정을 점차 확대해 가려는 반도체 제조사 입장에서 수율 향상은 반드시 짚고 넘어가야 하는 문제였다. 피코앤테라는 바로 이점에 주목하고 해결방안을 모색하기 시작하였다.

그 결과 공정 중 발생하는 웨이퍼의 레지드 가스(Residual Gas; 일명 Fume)가 웨이퍼 제조환경 및 품질에 영향을 줄 것으로 예측하고, 잔류가스를 제거하는 기술과 제품을 세계 최초로 개발하여 상용화하였다.
 

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피코앤테라의 기술혁신 및 차별화

피코앤테라가 개발한 300㎜ 웨이퍼 잔류가스 제거장치(모델명 FFS2000)는 반도체 생산공정에서 발생하는 오염과 간섭에 따른 수율 문제를 효과적으로 개선함으로써 공정의 효율성과 경제성 증가라는 가치를 제공하게 되었다.

특히 세계 주요 반도체 생산업체들이 20㎚ 이하 공정을 적용하고 있는 상황에서 피코앤테라의 한발 앞선 기술은 그 필요성이 크게 증가할 것으로 예상된다.

피코앤테라는 레지드 가스를 효과적으로 제거하고 장비 운용을 효율적으로 하기 위해 다양한 기술을 개발하고 제품에 적용하였다.
 
그 결과 다른 기술, 제품, 업체들보다 앞서는 차별화된 경쟁력을 갖출 수 있었다.

첫째, 웨이퍼를 동시에 최소 15개에서 50개 까지 수용 가능하며, 웨이퍼의 개수와 상관없이 각 웨이퍼 표면에 불활성 가스01를 균일하고 다양하게 분사할 수 있도록 디자인하였다.

둘째, 웨이퍼가 보관되는 카세트 표면을 내화학성 및 대전방지가 가능한 재료를 2중으로 처리함으로써 웨이퍼의 2차, 3차 피해 발생을 최소화하도록 개발하여 적용하였다.
 
각종 부식성 가스로부터 기계의 수명을 연장하기 위해 애노다이징(Anodizing)02과 강선방식 코팅(Anti-Corrosion Coating)03을 이중으로 처리하였다.

셋째, 배기 유속을 제어하기 위한 장치로 코안다 효과(Coanda Effect)04를 이용한 반영구적인 장치를 고안하여 적용하였다.

그 결과 유입되는 가스의 압력으로 배기하는 방식을 사용함에 따라 배기량 제어가 사실상 불가능했던 기존 제품들과 달리 안정적으로 배기량을 제어하여 웨이퍼 표면의 유체 흐름을 안정화시킬 수 있었다.

넷째, 장치를 효율적으로 관리하고 활용할 수 있도록 제어 및 소프트웨어를 자체 개발하였다.

온습도 제어 및 CDA, 불활성 가스 제어, 안전사양을 포함한 인터락 제어, Serial 및 LAN 통신 제어 등의 기능을 구현하여 제품의 신뢰성을 높였다.

이 밖에도 공정 온습도를 효과적으로 제어하기 위해 5면에 히터를 내장하고 2개의 제어기를 이용하여 챔버(Chamber)환경을 조절하였다.
 
또한 반도체 제조장비에 모듈 형태로 부착하여 사용할 수 있어 유사제품에 비해 생산공정이 추가되지 않고 설치공간도 따로 필요로 하지 않아 공간 활용도 또한 높다.

피코앤테라의 뛰어난 기술력은 실제 공정에 적용한 결과에서도 명확히 드러난다. 기존의 공정에 비해 웨이퍼상의 결점이 확연히 감소한 것을 확인할 수 있다.

이처럼 피코앤테라만의 차별적인 강점은 시장의 인정을 받으며 반도체 장비에 빠르게 적용되고 있다.

2015년 국내 주요 반도체 업체의 일부 단위공정에 적용되었으며 국내 최대 규모의 반도체 장비 업체와 세계 1위 반도체 장비업체인 A사를 비롯하여 일본 최대 장비 업체 T사 등의 외국 장비업체와 납품계약 체결을 진행 중이다.

한국, 미국, 일본의 반도체 장비업체에 진출한 것에서 한발 더 나아가 올해에는 대만 업체들을 목표로 시장을 개척하고 있다.


피코앤테라의 기술개발 및 사업화 추진과정
 

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피코앤테라는 2011년 FFS2000 개발 착수에서 사업화에 성공하기까지 총 40개월의 기간과 20억 원 가량의 자금을 투자하였다.
 
이처럼 장기간에 걸친 투자를 통해 피코앤테라는 독점적인 기술과 시장을 개척할 수 있었다.

그럼 지금부터 피코앤테라가 세계최초로 개발 및 상용화에 성공한 FFS2000의 개발 및 사업화 추진과정을 정리해보자.

(1) 아이디어 착안 및 발굴

피코앤테라는 대표이사를 포함한 주요 구성원 대부분이 반도체 업계에서 근무했던 경력자들로 최신 기술동향 파악에 유리하다는 강점을 갖고 있었다.

경험에 기반하여 기술과 시장의 흐름을 분석하고, 실제 산업에서 발생할 수 있는 문제와 이를 해결하기 위해 필요로 하는 기술을 예측할 수 있었다.
 
FFS2000 개발에 착수한 2011년 당시 대부분의 반도체 제조사들은 30nm대의 반도체 공정을 도입하거나 양산을 시도하고 있었다.
 
30nm대의 제조 공정에서는 레지드 가스가 생산성에 미치는 영향보다 생산 장비의 오염에 대한 관리 대상이었다.

시장 동향을 살피던 피코앤테라 연구인력들은 웨이퍼상의 공정 레지드 가스 발생으로 유발할 수 있는 문제점을 예측하고 그 해결을 위해 FFS2000에 관한 아이디어를 가지고 곧바로 R&D 계획을 수립하였다.

(2) 개발 과정에서의 애로점과 극복 과정

피코앤테라는 웨이퍼 상에 잔류하는 공정 레지드 가스를 제거하는 것을 목표로 3개월 간의 기초설계에 돌입하였다.
 
먼저 기초도면을 완성하여 가스의 유동 해석을 진행할 수 있는 테스트 장치를 만들고 약식으로 기체의 유동을 해석하여 시제품 설계 사양을 만들어 나갔다.

하지만 레지드 가스의 흐름에 대해서 유동해석을 한다는 아이디어에는 한계가 있었다. 무색, 무취의 가스를 측정하여 흐름을 파악하기가 쉽지 않았다. 피코앤테라는 이론적 공식을 바탕으로 수치해석적 방법을 적용해 이 문제를 해결했다.

자동차나 선박업체에서 주로 사용하는 가상 유동형태를 구성해 유동의 흐름을 촬영하는 PIV(Particle Image Velocimetry)기법을 도입한 것이다.

PIV 장치를 사내에 구축함으로써 다양한 유동형태를 확인하고 가스 제거장치의 디자인을 최적화 할 수 있었다.

특히 이 과정에서 대학 연구진과의 산학협력은 문제해결의 중요한 역할을 하였다.

단국대, 성균관대와의 협력을 통해 CFD(Computational Fluid Dvnamic)와 PIV 기법의 활용 가능성을 사전에 확인하고 PIV 장치를 사내에 구축하고 활용하는 과정에서 기술적 조언을 구할 수 있었다. 그 결과 3편의 공동 논문을 발표하기도 하였다.
 

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(3) 긴밀한 협업으로 기술의 완성도 향상

앞선 과정에서 얻은 결과를 바탕으로 시제품 설계와 제작에 돌입하였다.

그러나 컴퓨터에서 확인된 기능을 실제 제품을 제작하는 과정에서 다시 수많은 난관을 극복해야 했다. 챔버 내부의 표면처리나 온도, 습도 제어 같은 세밀한 가공과 조작은 유동해석과는 별개의 문제였다.

피코앤테라는 자체 연구개발 및 다른 기업들과의 협업을 통해 문제를 해결해 나갔다.

표면가공에 대한 기술과 지식을 전수받고, 제작에 대한 노하우를 어깨너머로 배우며 해결의 실마리를 찾아나갔다.

설계 변경, 가공방법의 다변화, 새로운 가공방법의 개발 등을 통해 시제품의 완성도를 높였다.

이후 양산공정에 직접 제품을 적용하여 테스트를 진행하였다. 하지만 자체 테스트만으로는 기술과 제품의 문제점을 파악하는데 한계가 있었다.
 
다시 협업할 대상을 찾아 나선 결과 국내 주요 반도체 대기업과 협업관계를 구축했다. 양산 공정에서 데모를 진행하고, 품질부서, 환경안전부서, 생산기술부서 등과의 수많은 테스트를 거쳐 제품의 문제점과 개선점을 확인할 수 있었다.

(4) 기술 보호 및 경쟁력 확보 노력
 

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피코앤테라의 기술사업화 노력은 제품의 완성에 그치지 않았다.

제품개발 과정에서 얻은 기술과 지식을 경쟁자들로부터 보호하고 경쟁력을 유지하기위해서 특허를 출원하고 기술유출 방지에 노력하였다.

FFS2000을 개발하는 과정에서 국내 27건, 해외 9건의 특허를 출원하여 15건의 국내 특허를 등록함으로써 기술력을 인정받는 동시에 법적 보호장치를 마련하였다. 피코앤테라는 현재 자사 특허로는 71건의 특허를 보유하고 있다.

국제특허 출원도 병행하는 한편 기술과 지식재산권을 적극적으로 보호하고 있다. 최근에는 이노비즈협회, 분당경찰서와 공동으로 산업보안협의회를 창립하였으며 산업기술 유출에 대한 경각심을 갖고 산업보안 수준 향상을 위해 노력하고 있다.


피코앤테라 혁신의 성공 요인

지난 5월 피코앤테라는 FFS2000의 기술적 사업적 성과를 인정받아 국내 최고의 권위를 가진 IR52 장영실상을 수상하였다. 2003년 창업 당시 4명으로 시작해 현재 42명 규모로 성장했다.

끊임없이 기술개발에 주력해온 결과 다양한 신기술들을 개발하여 71개의 특허를 취득할 만큼 뛰어난 기술력을 국내외에 과시하고 있다.
 
그렇다면 지금의 피코앤테라를 만든 성공요인은 무엇일까?

(1) 지식 전수 체계로 경쟁력 유지

기술이 핵심인 산업에서 기업경영의 핵심은 새로운 기술과 지식을 확보하고 이를 전수, 유지하며 경쟁우위를 지켜나가는 것이다.

피코앤테라는 ‘끊임없이 기술개발에 노력하는 것’을 가장 중요하게 여기고 있으며, 그 과정에서 축적된 지식과 노하우를 다른 직원들에게 전수하며 경쟁력을 유지하고 있다.

15∼20년 경력의 팀장을 책임리더로 하여 신입 직원들이 자신의 몫을 충분히 해낼 때까지 적극적으로 지식을 전수하고 코칭한다.

단기간에 결과를 도출하기보다 3∼5년 정도 장기간에 걸쳐 진정한 엔지니어로 성장하도록 지원한다.

이렇게 한 명의 엔지니어로 성장한 직원들은 다시 새로운 기술과 지식을 창출하면서 경쟁우위를 만들어 낸다.

내부 OJT 또한 활성화하여 직원 상호간에 원활한 지식 전수가 가능하도록 하고 있다. 노하우와 같은 암묵적 지식 역시 직접 체화할 수 있도록 체계적인 프로세스를 설계하여 전수하고 있다.

이처럼 수직적인 전수체계 뿐만 아니라 수평적인 지식 전수 역시 적극 유도하고 있다. 젊은 직원들은 보직을 몇 개월 단위로 순환하며 다른 업무에 대한 경험을 쌓도록 한다.

회사 외부로부터 새로운 지식을 얻기 위한 노력도 병행하고 있다. 국내·외의 반도체 관련 학회에 개발자들을 참석시켜 동향을 파악하고 새로운 지식을 학습하도록 지원한다. 외부에서 새롭게 얻은 지식들은 사내 세미나를 통해 공유하고 있다.

(2) 도전적 R&D로 기술 진입장벽 구축
 

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기업의 경영전략을 수립할 때 흔히 ‘산업구조 분석모형(Five Forces Model)’이 사용된다.

1979년 미국 하버드 경영대학 교수이자 경영전략 대가인 마이클 포터(Michael Porter)에 따르면 산업의 수익성은 공급자 교섭력, 구매자 교섭력, 대체재의 위협, 신규 진입자의 위협, 기존 기업간의 경쟁이라는 다섯 가지 요인에 의해 결정된다.

피코앤테라는 이 중에서 신규 진입자의 위협을 차단하는 형태로 R&D 경쟁전략을 추진해 왔다. 일정수준 이상의 기술은 그 자체만으로 신규 진입자에 대한 진입장벽 역할을 한다.

기술적 복잡성이 높거나 개발에 오랜 기간이 소요되는 경우 대부분의 후발주자들은 시장 진입을 포기하고 만다.

반면 단순히 기술을 모방하거나 개량하는 수준의 기술, 또는 단기간에 개발에 성공할 수 있는 기술로는 후발주자의 추격을 떨쳐내기 어렵다.
 
그래서 피코앤테라는 기술의 수준에 초점을 두고 신기술과 신사업을 판단한다.

후발주자를 막는 진입장벽이 되고 기업의 경쟁력을 높힐 수 있도록 기술 및 제품 개발에 성공할 때까지 최소 1년의 기간을 필요로 한다.

중소기업에게 있어 1년 이상의 연구개발 기간과 투자는 불확실성에 대한 과감한 도전이다.

피코앤테라는 개발의 모든 과정에서 지속적으로 기업 및 시장 상황을 파악하고, 방향성 및 실패 가능성 분석을 통해 진행여부를 판단함으로써 도전에 따르는 위험을 관리하였다.
 
과감한 도전과 치열한 위험 관리를 거치면서 비로소 기술적 경쟁력을 확보할 수 있게 된 것이다.

(3) 틈새시장 개척

피코앤테라는 틈새시장을 노림으로써 또 다른 경쟁자의 진입을 견제하는 전략을 구사했다.

연구개발을 수행함에 있어서 기술적 격차를 유지하는 것으로 경쟁자의 진입을 방지할 수 있더라도 모든 경쟁자를 차단하는 데는 한계가 있다.

만일 자본과 인력, 축적된 기술력을 보유한 대기업들이 시장에 진출할 경우 기술적 진입장벽은 금방 무너질 수 있기 때문이다.
 
따라서 규모가 큰 기업들의 구미를 당기지 않을 만한 틈새시장은 자동적인 방어수단이 될 수 있다.
 
피고앤테라는 기술적 수준은 높은 동시에 규모가 큰 기업이 노리지 않을 틈새시장을 목표로 함으로써 독자적인 시장과 기술을 개척할 수 있었다.

이러한 틈새시장 전략은 페이팔(인터넷을 이용한 결제서비스)의 창업자 피터 틸의 저서 「제로 투 원(Zero to One)」에서 이야기 한 ‘경쟁하지 말고 독점하라’는 주장과 같은 맥락이다.

경제학자들은 시장 관점에서 볼 때 경쟁에 찬사를 보내지만, 기업가들은 이러한 경쟁을 피해 독점기업이 되기 위해 노력한다.
 
특정한 분야에서 독보적인 위치를 차지할 때 기업은 승리자로서 보다 높은 이윤을 누릴 수 있다.

피코앤테라는 기존 반도체 장비업체들이 경쟁하고 있는 분야가 아닌 새로운 틈새시장을 발굴하였고, 남다른 기술력과 한발 앞선 혁신으로 고객사들에게 보다 높은 가치를 제공함으로써 성공할 수 있었다.

(4) 협업 전략으로 성과 극대화

현재의 기술 및 사업개발은 한 기업이 독자적으로 진행하던 과거 방식에서 벗어나 협력관계를 활용하여 문제를 해결하고 기술을 개발하는 추세로 변해가고 있다.

사회, 시장, 제품, 기술의 복잡성이 증가하는 만큼 모든 것을 혼자서 해결하는 것은 거의 불가능에 가깝다.

피코앤테라는 관련 업체, 대학교 등과 적극적인 협업을 통해 기술개발과 사업화 과정에서 발생하는 다양한 문제점들을 돌파해 나갔다.

실제로 국내에서 활동하는 세계 주요 반도체 업체들로부터 중요한 협업의 기회와 이득을 볼 수 있었다.

그들로부터 최신 기술에 대한 정보를 수월하게 얻음으로써 최신 기술동향을 먼저 파악하고 새로운 사업 기회를 발굴할 수 있었다.

나아가 개발된 기술과 제품을 사업화 하는 단계에서 협업의 가치는 더욱 빛을 발했다. 초기 제품을 만들게 되면 일단 제품의 성능을 확인하고 문제점과 개선점을 파악해야 한다.

하지만 자체 테스트만으로는 한계가 있다. 피코앤테라는 협업을 통해 제품에 대한 데모를 진행하고, 제품의 질을 개선해 나갔다.

동시에 분석 결과를 다른 협력 업체들과 공유하면서 자연스럽게 브랜드를 알릴 수 있었다.

대학 연구진들과의 산학협력 또한 중요한 역할을 하였다. FFS2000을 개발하는 과정에서 자체적으로 CFD와 PIV 같은 기술을 적용하는데 많은 한계가 있었다.

기술에 대한 이해와 실제 활용이 쉽지 않고, 처음부터 고가의 소프트웨어들을 갖추기가 어렵기 때문이다.
 
피코앤테라는 적극적인 산학협력을 통해 초기단계에서 기술적 가능성을 검토하고, 조언을 통해 문제점들을 해결할 수 있었다.

(5) 적절한 권한 위임

대부분의 경영자들은 종업원들에게 주인의식을 가지라고 한다.
 
실제로 구성원들의 주인의식으로 위기에서 벗어나고 더욱 발전하게 된 사례가 많다.

특히 중소기업의 경우 사업의 불확실성을 규모와 시스템으로 관리하는데 한계가 있다. 때문에 구성원들의 역량과 주인의식에 더욱 의지하게 된다.

그러나 종업원들의 주인의식은 적절한 수준의 권한이 주어질 때 제대로 작동할 수 있다. 연구개발팀의 경우 책임리더들이 권한을 갖고 프로젝트를 추진한다.

많은 비용이 소요되는 연구기자재나 테스트 장비의 도입 또한 책임리더의 책임 하에 결정되다.
 
종업원 채용프로세스 역시 실제 담당자가 현장 상황에 맞게 최종 의사결정을 내릴 수 있도록 권한을 부여하고 있다.

우범제 대표이사의 지론은 ‘멍석을 깔아주는 회사’다. ‘누구든 와서 하고 싶은 일을 하고, 자기 능력을 실컷 발휘할 수 있는 회사’를 만들고 싶다는 포부를 담은 이야기이다.

종업원 누구나 권한과 주인의식을 갖고 역량을 펼칠 수 있도록 하는 운영방식에 또 다른 혁신의 요소가 담겨 있다.

(6) 핵심인력 관리

‘인사(人事)가 만사(萬事)’라는 말이 있다. 대부분의 CEO들이 경영에 있어 가장 중요한 요소로 사람을 얘기한다.

특히 사업을 시작한 지 얼마 되지 않은, 소규모 회사일수록 인력의 중요성은 더욱 강조된다.

짐 콜린스는 「좋은 기업을 넘어 위대한 기업으로」에서 “좋은회사에서 위대한 회사로의 전환에 불을 붙인 경영자들은 버스에 적합한 사람들을 먼저 태우고 난 다음에 어디로 몰고 갈지 생각했다”라고 저술했다.

좋은 인력을 확보하고 그들이 제대로 일할 수 있도록 관리하는 것이 곧 경영의 핵심이다.

피코앤테라 또한 우수한 인력을 확보하는데 많은 노력을 기울이고 있다. 중소기업으로는 드물게 대졸 신입사원에게 수당을 포함하여 4,000만 원 수준의 연봉을 책정하고 있다.

3년 정도 근속한 직원에게는 5,000만 원 수준의 연봉을 지급하며 우수한 인력들을 끌어들이고 있다.
 
향후에는 반도체 장비 분야 국내·외 선도업체들과 비슷한 수준으로 맞춰 나갈 예정이며, 장기적으로 국내 상위 10% 이내의 급여수준을 목표로 하고 있다.

직무발명 보상제도 등도 체계적으로 도입하여 성과보상을 확대해 나갈 계획이다.

또한 핵심인력들이 마음껏 역량을 발휘할 수 있도록 특별 관리하고 있다.

기술 엔지니어링을 맡고 있는 10여명에 대해서는 실력과 경험, 노하우 모두 베스트 엔지니어 수준이라 소개하며, 그들에 대한 특별한 애착과 중요성을 강조한다.

핵심인력을 위한 별도의 보상체계도 갖추고 있다. 자사주를 부여하거나 다른 직원들보다 2~3배 높은 수준의 성과급을 책정하는 등 보상을 강화하고 있다.


세계 시장을 이끄는 리딩 기업의 꿈

현재 반도체 생산업체에서는 제품 경쟁력을 높이기 위해서 새로운 제조 기술을 개발하고 있으며, 반도체 장비업체는 생산성 향상과 높은 효율을 가진 장비 개발에 노력을 기울이고 있다.

이러한 가운데 피코앤테라의 성공은 주목을 받기에 충분해 보인다. 2014년 말부터 20㎚대 웨이퍼 잔류가스 제거장치의 본격 양산에 돌입, 지난해에는 전년 대비 300% 이상의 매출 신장을 기록했다.
 
최근 20㎚대의 디바이스가 메모리 생산의 주력으로 자리잡고 적용공정이 확산되고 있어 향후 2~3년 내에 500억원 이상의 매출을 기록할 것으로 전망하고 있다.

국내외 타 경쟁제품과 비교할 때 전망은 더욱 밝아보인다. 20㎚대 웨이퍼 잔류가스 제거장치는 세계 최초의 개발로 현재 국내외에 경쟁 제품이 없다.

전 세계 반도체 장치 시장을 주도하는 글로벌 회사를 목표로 끊임없는 연구개발 개발과 독보적인 기술축적에 힘쓰고 있는 피코앤테라의 다음 도전을 기대한다.
 

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01 다른 물질과 화학반응을 일으키기 어려운 가스(Unalive Gas)

02 금속 재질의 표면을 의도적으로 산화·부식 시켜서 생긴 산화막 자체가 외부의 영향으로부터 제품을 보호하는 역할을 하게 하고, 그 다공성 표면 위에 착색도 가능하게 하는 표면처리법

03 선체의 부식을 방지하는 코팅

04 벽면이나 천장면에 접근하여 분출된 기류가 그 면에 빨려서 부착하여 흐르는 경향을 갖는 것을 지칭. 이 경우 한쪽만 확산하므로 자유 분류에 비해 속도의 감쇠가 작고, 도달 거리가 길어짐